注文製作設備

水処理設備

一般的な純水は, 簡単な前処理システムを通した原水をイオン交換樹脂を通過させ、抵抗値をどの程度まで引き上げた水、又は蒸留装置で得た水を言う。
しかし、近年では半導体、太陽光、製薬会社に使用される水は金属イオン、有機物、微粒子、微生物を極限まで除去された超純水が使用されている。
このように、生産性向上で LSI Patternを細密化することができる。
又、超純水の使用量が多いため、生産費用を低くするためにR/O SYSTEMが前処理工程に使用され、後処理工程はEDI, MBP, U/Fが使用される。

RO WATER SYSTEM 설비

分野 R/O WATER SYSTEM
業種 電気、電子
処理量 3Ton/Day
容量 125 Liter/Hr
構成要素 A/Carbon Filter + Softener + Micro Filter + R/O Unit
コントロール方式 PLC自動制御方式
サイズ L 6,400 x W 1,200 x H 2,300
FLOW LATE

DI WATER SYSTEM 設備

分野 DI WATER SYSTEM
業種 太陽光
処理量 1,200Ton/Day
容量 50Ton/Hr
構成要素 A/Carbon Filter + Softener + Micro Filter + R/O Unit
+ EDI Unit + Final Filter
コントロール方式 PLC自動制御方式
サイズ L 6,700 x W 3,000 x H 2,500
FLOW LATE

RO WATER PILOT 設備

分野 R/O, NANO WATER SYSTEM
業種 浄水場
処理量 3Ton/Day
容量 125 Liter/Hr
構成要素 Media Filter + Micro Filter + R/O Unit, NANO Filter Unit
コントロール方式 PLC自動制御方式
サイズ L 6,000 x W 3,000 x H 2,500
FLOW LATE

18M DI WATER SYSTEM 設備

分野 18M DI WATER SYSTEM
業種 太陽光
処理量 600Ton/Day
容量 25Ton/Hr
構成要素 A/Carbon Filter + Softener + Micro Filter + R/O Unit
+ Membrane Degasifier + EDI Unit + TOC U.V
+ Mixbed Polisher + U/F Unit
コントロール方式 PLC自動制御方式
サイズ L 6,500 x W 2,700 x H 2,400
FLOW LATE

DI WATER SYSTEM 設備

分野 DI WATER SYSTEM
業種 半導体
処理量 240Ton/Day
容量 10Ton/Hr
構成要素 A/Carbon Filter + Softener + Micro Filter + R/O Unit
+ EDI Unit + Final Filter
コントロール方式 PLC自動制御方式
サイズ L 12,000 x W 7,500 x H 3,500
FLOW LATE